第22次中韩知识产权局局长会议在日本举行
申长雨(左)会见韩国特许厅厅长崔东圭
12月8日,第22次中韩知识产权局局长会议在日本小田原市举行,中国国家知识产权局局长申长雨与韩国特许厅厅长崔东圭出席会议。
申长雨表示,中韩两局合作基础良好,在过去的一年中双边合作取得丰硕成果。中国国家知识产权局愿意和韩国特许厅继续加强合作,深化两局在知识产权各领域中的务实合作,发掘合作新增长点,为包括韩资企业在内的知识产权用户提供更好的服务。
崔东圭祝贺中国知识产权事业所取得的成绩,他表示,韩国特许厅将继续努力将中韩两局之间的合作推向更高水平,也愿意借鉴中国国家知识产权局的发展经验,解决好共同面临的挑战。
会上,双方深入探讨了中韩两局未来如何更好地推进在相互派遣联络员、中韩专利专家会议、联合检索与审查项目、中韩外观设计专家会、培训机构会议、自动化专家组会议、复审机构会议等项目中的合作,确定了明年的合作计划。
会后,双方共同签署了《第22次中韩两局局长会议会谈纪要》。(知识产权报 通讯员 张亚宁/文 张占超/摄)
http://www.gov.cn/xinwen/2016-12/09/content_5145554.htm